精密加熱系統，配備六個獨立區域，適用於材料研究和工業應用的複雜熱梯度。
設有六個獨立加熱區域，配備專用PID控制器，可實現精確、客製化的溫度曲線（±1°C 精度）。
最高溫度可達 1200°C，加熱速率快（≤10°C/分鐘），並具有長期穩定性。
透過六通道氣體流量系統，支援真空、惰性氣體（N2、Ar）和還原氣氛（H2）。
整合 7 英寸觸控螢幕，實現智慧控制，具備 15 個可程式化曲線和遠端資料匯出功能。
內建過溫保護和自動維護提醒，確保操作安全性和可靠性。
適用於梯度燒結、化學氣相沉積（CVD）、退火和晶體生長等先進應用。
型號：RJ-O1200-80T66F
最高溫度：1200°C
溫度精度：±1°C
加熱速率：≤10°C/分鐘
加熱區域：6 個區域（每個 Φ150×300mm）
爐管材質：石英，Φ80×2800×5mm
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