整合式 1200°C 多區石英管式爐系統，專為實驗室化學氣相沉積 (CVD) 應用而設計，包括石墨烯製備。
完整的化學氣相沉積 (CVD) 系統，配備 1200°C 管式爐。
配備三個獨立控制的加熱區（各 200mm），用於熱梯度處理。
包含適用於 CVD 反應的高純度石英過程管（標準外徑 50mm）。
整合式多通道質量流量控制氣體混合和輸送系統。
配備完整的真空系統，包括泵和精密壓力計，用於控制氣氛。
專為實驗室規模的薄膜沉積和材料合成（如石墨烯）而設計。
安全系統包含可燃氣體檢測，並連接到自動電磁閥關斷閥。
最大設計溫度：1200°C
建議工作溫度：≤ 1100°C
加熱區：3（每個長度 200mm）
處理管：高純度石英（外徑 50mm x 長度 1000mm）
氣體控制系統：3 通道質量流量控制
真空能力：約 4.4 x 10E-3 Pa（最終值，取決於系統）
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