高性能雙區水平真空管式爐，最高溫度可達 1200°C，專為精密的實驗室熱處理應用而設計。
適用於要求嚴格的實驗室應用，最高工作溫度可達 1200°C。
雙加熱區允許獨立控制溫度並產生熱梯度。
整合式真空系統可在受控氣氛下進行處理，真空度低至 -0.1MPa。
水平分體式管設計便於樣品裝載和管子更換。
精密的溫度控制確保高精度（±1°C）和過程重複性。
適用於實驗室 CVD、PVD、退火、擴散和燒結過程。
最高溫度：1200°C
加熱區：2（雙區控制）
加熱元件：Fe-Cr-Al-Mo 合金線
最高真空度：-0.1 MPa
溫度精度：±1°C
最高升溫速率：20°C/分鐘
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