Sistema integrado de forno de tubo de quartzo multizona de 1200°C projetado para aplicações de Deposição Química em Vapor (CVD) em laboratório, incluindo preparação de grafeno.
Sistema completo de Deposição Química em Vapor (CVD) com um forno de tubo de 1200°C.
Equipado com três zonas de aquecimento controladas independentemente (200 mm cada) para processamento de gradiente térmico.
Inclui um tubo de processo de quartzo de alta pureza (50 mm de diâmetro externo padrão) adequado para reações CVD.
Sistema integrado de mistura e fornecimento de gás controlado por fluxo de massa multicanal.
Apresenta um sistema de vácuo abrangente com bomba e medidor de precisão para controle de atmosfera.
Projetado especificamente para deposição de filme fino em escala de laboratório e síntese de materiais como grafeno.
O sistema de segurança incorpora detecção de gás combustível ligada a uma válvula de desligamento automático solenóide.
Temperatura Máxima de Projeto: 1200°C
Temperatura de Operação Recomendada: ≤ 1100°C
Zonas de Aquecimento: 3 (200 mm de comprimento cada)
Tubo de Processo: Quartzo de Alta Pureza (50 mm de diâmetro externo x 1000 mm de comprimento)
Sistema de Controle de Gás: Controlado por Fluxo de Massa de 3 Canais
Capacidade de Vácuo: Aprox. 4,4 x 10E-3 Pa (Ultimate, dependente do sistema)
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