Forno de tubo a vácuo horizontal de alto desempenho de zona dupla que atinge 1200°C, projetado para aplicações de processamento térmico de precisão em laboratório.
Alcança temperaturas máximas de operação de até 1200°C para aplicações de laboratório exigentes.
Duas zonas de aquecimento permitem controle independente de temperatura e criação de gradiente térmico.
O sistema de vácuo integrado permite o processamento em atmosferas controladas até -0,1 MPa.
O design horizontal de tubo dividido facilita o carregamento de amostras e a substituição do tubo.
O controle de temperatura de precisão garante alta precisão (±1°C) e repetibilidade do processo.
Ideal para processos laboratoriais de CVD, PVD, recozimento, difusão e sinterização.
Temperatura Máxima: 1200°C
Zonas de Aquecimento: 2 (Controle de Zona Dupla)
Elemento de Aquecimento: Fio de Liga Fe-Cr-Al-Mo
Nível de Vácuo Máximo: -0,1 MPa
Precisão de Temperatura: ±1°C
Taxa de Aquecimento Máxima: 20°C/min
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