Um sistema de aquecimento de precisão com seis zonas independentes para gradientes térmicos complexos em pesquisa de materiais e aplicações industriais.
Possui seis zonas de aquecimento independentes com controladores PID dedicados para perfis de temperatura precisos e personalizados (precisão de ±1°C).
Alcança taxas de aquecimento rápidas (≤10°C/min) até uma temperatura máxima de 1200°C com estabilidade a longo prazo.
Suporta vácuo, gás inerte (N2, Ar) e atmosferas redutoras (H2) com um sistema de fluxo de gás de seis canais.
Integra um touchscreen de 7 polegadas para controle inteligente, com 15 curvas programáveis e exportação remota de dados.
Construído com proteção contra sobretemperatura e lembretes de manutenção automática para garantir segurança e confiabilidade operacional.
Ideal para aplicações avançadas como sinterização em gradiente, Deposição Química de Vapor (CVD), recozimento e crescimento de cristais.
Modelo: RJ-O1200-80T66F
Temperatura Máxima: 1200°C
Precisão de Temperatura: ±1°C
Taxa de Aquecimento: ≤10°C/min
Zonas de Aquecimento: 6 zonas (Φ150×300mm cada)
Material do Tubo da Fornalha: Quartzo, Φ80×2800×5mm
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