材料研究および産業用途における複雑な熱勾配を実現する、6つの独立したゾーンを備えた精密加熱システム。
精密でカスタマイズされた温度プロファイル（±1°C精度）を実現する、専用PIDコントローラーを備えた6つの独立した加熱ゾーンを搭載。
最大1200°Cまでの急速な昇温速度（≤10°C/分）と長期安定性を実現。
6チャンネルガスフローシステムにより、真空、不活性ガス（N2、Ar）、還元性雰囲気（H2）に対応。
スマート制御用の7インチタッチスクリーンを統合し、15のプログラム可能なカーブとリモートデータエクスポート機能を搭載。
過熱保護と自動メンテナンスリマインダー機能を搭載し、運用上の安全性と信頼性を確保。
グラディエント焼結、化学気相成長（CVD）、アニーリング、結晶成長などの高度な用途に最適。
モデル: RJ-O1200-80T66F
最高温度: 1200°C
温度精度: ±1°C
昇温速度: ≤10°C/分
加熱ゾーン: 6ゾーン（各Φ150×300mm）
炉筒材質: 石英、Φ80×2800×5mm
お客様のご要望にお応えできるよう、お手伝いさせていただきます。どのようにお手伝いできるか、お話しましょう。
