1200℃に達する高性能デュアルゾーン水平真空チューブ炉。精密な実験室用熱処理用途向けに設計されています。
要求の厳しいラボ用途向けに、最大動作温度1200℃を実現します。
2つの加熱ゾーンにより、独立した温度制御と熱勾配の作成が可能です。
内蔵真空システムにより、-0.1MPaまでの制御された雰囲気下での処理が可能になります。
水平分割チューブ設計により、サンプルの装填とチューブの交換が容易です。
精密な温度制御により、高い精度（±1℃）と処理の再現性を確保します。
実験室でのCVD、PVD、アニール、拡散、焼結プロセスに最適です。
最高温度：1200℃
加熱ゾーン：2（デュアルゾーン制御）
発熱体：Fe-Cr-Al-Mo合金線
最高真空度：-0.1 MPa
温度精度：±1℃
最高昇温速度：20℃/分
お客様のご要望にお応えできるよう、お手伝いさせていただきます。どのようにお手伝いできるか、お話しましょう。
