集成的1200°C多区石英管式炉系统，专为实验室化学气相沉积（CVD）应用而设计，包括石墨烯制备。
完整的化学气相沉积（CVD）系统，配备1200°C管式炉。
配备三个独立控制的加热区（各200mm），用于温度梯度处理。
包括高纯度石英工艺管（标准外径50mm），适用于CVD反应。
集成的多通道质量流量控制气体混合和输送系统。
配备完整的真空系统，包括真空泵和精密真空计，用于控制气氛。
专为实验室规模的薄膜沉积和材料合成（如石墨烯）而设计。
安全系统包含可燃气体检测装置，连接到自动电磁阀。
最大设计温度：1200°C
推荐工作温度：≤ 1100°C
加热区：3（每个200mm长度）
工艺管：高纯石英（外径50mm x 长度1000mm）
气体控制系统：3通道质量流量控制
真空能力：约4.4 x 10E-3 Pa（极限值，取决于系统）
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