高性能双区卧式真空管式炉，最高温度可达1200°C，专为精确的实验室热处理应用而设计。
最高工作温度可达1200°C，满足苛刻的实验室应用需求。
双加热区允许独立控制温度和创建温度梯度。
集成真空系统能够在受控气氛下进行处理，真空度可达-0.1MPa。
水平分体管设计便于样品装载和管子更换。
精密温度控制确保高精度（±1°C）和工艺重复性。
非常适合实验室CVD、PVD、退火、扩散和烧结工艺。
最高温度：1200°C
加热区：2（双区控制）
加热元件：Fe-Cr-Al-Mo合金丝
最大真空度：-0.1 MPa
温度精度：±1°C
最大升温速率：20°C/min
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