Integriertes 1200°C-Mehrzonen-Quarzglas-Rohrofensystem für Laboranwendungen der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), einschließlich der Graphenherstellung.
Komplettes System zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) mit einem 1200°C-Rohrofen.
Ausgestattet mit drei unabhängig gesteuerten Heizzonen (je 200 mm) für die thermische Gradientenverarbeitung.
Enthält ein hochreines Quarzprozessrohr (50 mm Außendurchmesser Standard), geeignet für CVD-Reaktionen.
Integriertes Mehrkanal-Massenstrom-gesteuertes Gasmisch- und Zufuhrsystem.
Umfassendes Vakuumsystem mit Pumpe und Präzisions-Vakuummeter zur Atmosphärenkontrolle.
Speziell entwickelt für die Abscheidung von Dünnschichten und die Materialsynthese im Labormaßstab, wie z. B. Graphen.
Das Sicherheitssystem umfasst eine brennbare Gasdetektion, die mit einem automatischen Magnetventil verbunden ist.
Maximale Auslegungstemperatur: 1200°C
Empfohlene Betriebstemperatur: ≤ 1100°C
Heizzonen: 3 (je 200 mm Länge)
Prozessrohr: Hochreines Quarzglas (50 mm Außendurchmesser x 1000 mm Länge)
Gasregelungssystem: 3-Kanal-Massenstrom-gesteuert
Vakuumfähigkeit: Ca. 4,4 x 10E-3 Pa (Ultimate, systembedingt)
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