Système de four tubulaire à quartz multizones intégré de 1200°C, conçu pour les applications de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) en laboratoire, notamment la préparation du graphène.
Système complet de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) comprenant un four tubulaire de 1200°C.
Équipé de trois zones de chauffage contrôlées indépendamment (200 mm chacune) pour le traitement en gradient thermique.
Comprend un tube de process en quartz de haute pureté (50 mm de diamètre extérieur standard) adapté aux réactions CVD.
Système intégré de mélange et de distribution de gaz contrôlé par débit massique multicanal.
Comprend un système de vide complet avec pompe et jauge de précision pour le contrôle de l'atmosphère.
Spécifiquement conçu pour le dépôt de couches minces à l'échelle du laboratoire et la synthèse de matériaux comme le graphène.
Le système de sécurité intègre une détection de gaz combustible liée à une vanne d'arrêt automatique à solénoïde.
Température de conception maximale : 1200°C
Température de fonctionnement recommandée : ≤ 1100°C
Zones de chauffage : 3 (200 mm de longueur chacune)
Tube de process : Quartz haute pureté (50 mm de diamètre extérieur x 1000 mm de longueur)
Système de contrôle des gaz : Contrôle de débit massique à 3 canaux
Capacité sous vide : Environ 4,4 x 10E-3 Pa (Ultime, selon le système)
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