Sistema integrado de horno de tubo de cuarzo multizona a 1200 °C diseñado para aplicaciones de Deposición Química en Vapor (CVD) de laboratorio, incluida la preparación de grafeno.
Sistema completo de Deposición Química en Vapor (CVD) con un horno de tubo a 1200 °C.
Equipado con tres zonas de calentamiento controladas independientemente (200 mm cada una) para el procesamiento de gradientes térmicos.
Incluye un tubo de proceso de cuarzo de alta pureza (50 mm de diámetro exterior estándar) adecuado para reacciones CVD.
Sistema integrado de mezcla y suministro de gas controlado por flujo másico multicanal.
Cuenta con un sistema de vacío completo con bomba y medidor de precisión para el control de la atmósfera.
Específicamente diseñado para la deposición de películas delgadas a escala de laboratorio y la síntesis de materiales como el grafeno.
El sistema de seguridad incorpora la detección de gases combustibles vinculada a una válvula de cierre automático de solenoide.
Temperatura máxima de diseño: 1200 °C
Temperatura de funcionamiento recomendada: ≤ 1100 °C
Zonas de calentamiento: 3 (200 mm de longitud cada una)
Tubo de proceso: Cuarzo de alta pureza (50 mm de diámetro exterior x 1000 mm de longitud)
Sistema de control de gas: Control de flujo másico de 3 canales
Capacidad de vacío: Aprox. 4,4 x 10E-3 Pa (Máxima, según el sistema)
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